在半導(dǎo)體制造的世界里，工藝氣體就如同芯片的 “生命氣息”，必須純凈無(wú)瑕。而 BF 系列大宗氣體專(zhuān)用過(guò)濾器則是保障這一純凈度的關(guān)鍵所在，在眾多核心應(yīng)用場(chǎng)景中展現(xiàn)出無(wú)可替代的價(jià)值。

先說(shuō)說(shuō)它在芯片制造關(guān)鍵的光刻環(huán)節(jié)的作用。在這個(gè)精細(xì)到納米級(jí)的工序中，大量超高純氮?dú)獗皇褂?。哪怕是極其微小的塵埃顆?；蛘呶⒘康挠袡C(jī)雜質(zhì)混在氮?dú)饫铮伎赡茏尮饪痰墓饩€發(fā)生散射或者干擾光刻膠的化學(xué)反應(yīng)，最終導(dǎo)致芯片線路圖案出現(xiàn)瑕疵。BF 系列過(guò)濾器在此處表現(xiàn)卓越，其高達(dá) 0.003um 的過(guò)濾精度，就像一個(gè)超級(jí)精密的篩子，把那些可能 “搞破壞” 的雜質(zhì)統(tǒng)統(tǒng)攔住。它采用全 316L 不銹鋼精密打造，這種材質(zhì)不僅耐腐蝕，還為其堅(jiān)固的結(jié)構(gòu)提供支撐，確保在高壓環(huán)境下穩(wěn)定運(yùn)行，進(jìn)一步保證了氮?dú)庖宰罴儍舻臓顟B(tài)參與光刻過(guò)程，大大提高了光刻的精準(zhǔn)度和芯片的良品率。

在薄膜沉積工藝?yán)?，像金屬薄膜或者絕緣薄膜的沉積，常常會(huì)用到氬氣、氫氣等工藝氣體。這些氣體的純度對(duì)薄膜的均勻性、厚度控制以及電學(xué)性能等有著決定性的影響。BF 系列過(guò)濾器的多柱狀或疊盤(pán)狀介質(zhì)設(shè)計(jì)在此時(shí)就大顯神通了。它能夠在保證大流量氣體供應(yīng)的同時(shí)，維持極低的阻損，讓氣體平穩(wěn)且持續(xù)地進(jìn)入反應(yīng)腔室。相比傳統(tǒng)過(guò)濾器，它的通量提升了近 30%，而壓力損失卻降低了 20% 左右，這意味著在相同的動(dòng)力條件下，它能讓更多的純凈氣體高效地參與薄膜沉積，使得沉積出的薄膜質(zhì)量更高，性能更穩(wěn)定，為芯片的整體性能奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。

還有在蝕刻工藝中，無(wú)論是干法蝕刻還是濕法蝕刻，對(duì)工藝氣體的純凈度要求都極高。蝕刻過(guò)程就像是在芯片上進(jìn)行微觀雕刻，如果氣體中有雜質(zhì)，就可能造成蝕刻過(guò)度或者不足，使芯片的微觀結(jié)構(gòu)出現(xiàn)缺陷。BF 系列過(guò)濾器的全 316L 不銹鋼材質(zhì)和出色的過(guò)濾性能，能夠有效去除氣體中的各種雜質(zhì)，無(wú)論是顆粒雜質(zhì)、水分還是其他有害成分，都能被它精準(zhǔn)捕捉。其納污能力也極為出色，比普通過(guò)濾器多容納約 40% 的雜質(zhì)，這大大減少了頻繁更換濾芯的麻煩，提高了生產(chǎn)效率。在高溫且充滿化學(xué)反應(yīng)的蝕刻環(huán)境中，它的整體金屬構(gòu)造也能安然無(wú)恙，穩(wěn)定地為蝕刻工藝提供純凈氣體，確保芯片蝕刻工序順利進(jìn)行。

在半導(dǎo)體制造的整個(gè)流程中，從前端的晶圓加工到后端的封裝測(cè)試，BF 系列大流量異形過(guò)濾器始終堅(jiān)守崗位，為每一個(gè)工藝環(huán)節(jié)的工藝氣體保駕護(hù)航。它就像是一位默默奉獻(xiàn)的幕后英雄，雖然不直接參與芯片的功能構(gòu)建，但卻以保障氣體純凈度的方式，間接決定了芯片的質(zhì)量、性能和可靠性，是推動(dòng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)不斷向前發(fā)展的重要力量源泉。

恒歌金屬濾材氣體過(guò)濾器是半導(dǎo)體行業(yè)高純/超純氣體過(guò)濾系統(tǒng)的首選

產(chǎn)品特點(diǎn)及規(guī)格:

1、耐高溫耐高壓耐腐蝕

2、整體316L不銹鋼結(jié)構(gòu)

3、適用于多種工藝氣體

4、高通量、低阻力

5、超高顆粒攔截效率

6、100%氨氣檢露測(cè)試

7、內(nèi)置0.003-100微米過(guò)濾器

8、出口氣體各雜質(zhì)含量小于5ppb

9、可配置兩閥、三閥和四閥等組件

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